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Courants dans l'épissure PN 1) équation de continuité : L'ébauche d'une équation qui tient le compte du dû courant est aux porteurs de majorité aux lesquels aux porteurs de minorité, afin de le caractériser considère avoir la région large du dx de semi-conducteur et le secteur, est eue :
2) la capture et l'émission d'une partie d'états localisent à vous : Le mécanisme plus simple que la génération visionne l'émission d'un électron qu'elles donnent les passages de bande de valence dans la bande de conduction, il mais il est assez improbable dans les semi-conducteurs que comme le germanium et un silicium ils possèdent un espace indirect, exige en fait une collision à trois particules, un électron, un photon et un fonone, que cela se produit à la place est qu'ils viennent tire profit de vous des états actuels à l'intérieur de l'espace qui ont doivent des impuretés ou aux imperfections du bonnet, ils est beaucoup de voisins fermes au niveau de la qualité intrinsèque et a l'énergie ett et densité de Nt , nous supposons d'ailleurs qu'ils sont des accepters d'états qui est neutre si vide et nié à vous une fois occupé. Les 4 processus possibles peuvent être eus après : La capturede R 1
d'une ébauche d'électron du passage
d'un électron de la bande de la conduction à une soit vide, le
rythme à laquelle cela qu'elle se produit est R2 d'émission
d'elettrone une ébauche du passage d'un électron
de l'état localisé à la bande de conduction, le rythme quel ci² il
se produit est La capturede R 3
de la lacune que une ébauche du passage d'un
espace de la bande de la valence à une soit localisée a occupé d'un
électron, le rythme auquel cela elle se produit est R4 d'émission de
lacune une ébauche du passage d'un espace de
l'état localisé à la bande de la valence ou de l'équivalent le
passage d'un électron de la bande de la valence à l'état localisé,
le rythme auquel cela il se produit est 3) la distinction entre les états vous localise du type piège et du type centre de recombinaison : La distinction se produit pour la manière de fenomenologica qui est suppose qu'il y a une augmentation de R3 a donc une augmentation du n° des lacunes, peut être retourné à l'état de l'équilibre thermique est par Rle 1 (…dans qui enferment l'état localisé est un centre de recombinaison) cela par R4 (…dans qui enferment l'état localisé est un piège).
4) recombinaison clairement U de taux :
là où on l'a supposé que les sections de capture sont
égales et que
5) période de la vie des porteurs supérieurs : L'ébauche du temps qui s'écoule avant que les porteurs
supérieurs qui ont été inettati ils viennent riassorbi, parce que
sa détermination emploie la fonction de U appliquée exactement aux
porteurs à n supérieur 'dans le cas de l'injection de Low_Level qui
est dans le cas dans lequel la densité des porteurs elles ne sont pas
beaucoup changées de la perturbation concernant leur valeur à
l'équilibre, est eue qui est le poi n de p 0 "de â de n0 e p '= p" de â de n'
= n naturellement '= p '. Le taux
de recombinaison On l'observe que la période de la vie des porteurs à t supérieurn ne dépend pas de la concentration des porteurs de majorité.
6) Norme De Recombinaison : C'est un processus à deux corps, un électron et un espace annihile mutuel.
7) Recombinaison De Foreuse : C'est un processus à 3 corps, un électron et un espace annihilent et un troisième électron ou espace acquiert le moment et l'énergie des porteurs qui frappent.
8) densité des porteurs de minorité au bord de la région vidante : Nous voulons déterminer la densité des porteurs de minorité supérieurs aux extrémités de la région vidante donc que nous sommes intéressés à la concentration d'électron dedans - x pqui est n 'p(- à x supérieurp) et à la concentration d'espace supérieure dans xn qui est p 'n(xn), ils expriment comme la différence entre la valeur passionnant'et la valeur à l'équilibre, et peuvent être obtenus facilement en combien coûtent célèbre la concentration à l'autre fin des épissez (…égale à la concentration des impuretés dans le vrtù d'approximation de la neutralité presque) et la différence potentielle elles égales aux mises à niveau elles de Construire-Dans.
9) analyse de la valve de diode idéale : Le cours des lacunes supérieures à l'intérieur de la
majeure partie de n_doped peut lui-même être gagné au moyen de
l'équation
10) valve de diode à désirer ardemment base : On suit l'ébauche d'une valve de diode pour laquelle la
longueur de Lla diffusion p
est petite concernant la longueurW B du n_doped de que tous sont recombiné avant
l'atteinte dans WB et donc le
coefficient de B du membre reflété est nulle donc que le cours des
lacunes supérieures à l'intérieur du volume est
11) valve de diode à la base courte : L'ébauche d'une valve de diode en laquelle la longueur de
L la diffusionp est beaucoup la
plus grande de l'amplitude WB de n_doped, donc dans
12) les courants dans la région de la charge les espacent : Dans la région d'elle charge les espaces qu'ils sont les
centres actuels de ricombinazione/generazione, donc il est nécessaire
d'estimer les courants ils dus, au moyen de fonction
Le diretta ha U>0
de polarisation nettoient donc la recombinaison, le total
courant de la recombinaison rde J obtient l'intégration le long de la région des charges
les espace L'inversa ha U<0 de
polarisation nettoient donc la génération, le total courant de
la génération de Jg est de la
manière approximative
13) courants dans la vraie valve de diode : Dans les vraies valves de diode là-bas au courant a visionné préalablement dans le cas de la valve de diode idéale que les courants sont eus également qui dérivent de la génération et la recombinaison dans la région des charges les espace, ils s'avèrent la plupart du temps être importants dans le cas de la polarisation inverse ou de la polarisation active mais la personne faible, dans la proximité de l'épissure sont eues : ) porteurs de minorité d'iniettati qu'elles répandent vers le contact d'ohmmico b) porteurs de majorité qui driftano vers l'épissure pour être alors diffus dans la région où elles sont minorité c) porteurs de majorité qui driftano vers l'épissure afin de se recombiner avec les porteurs de minorité d'iniettati d) les porteurs de majorité que le driftano vers la région He charge les espacent afin de se recombiner avec venir des porteurs de la région avec le drogaggio opposé. De toute façon dans la proximité des contacts d'ohmmici le courant est dû exclusivement des porteurs de majorité qui driftano.
14) Carica stockée d'une valve de diode : Elle charge entreposé dans la région presque-neutre est
obtenue intégrant sur une telle région la distribution de la
minorité de charges supérieure, dans le cas d'une valve de diode
pour désirer ardemment base qu'une telle distribution est Dans le cas d'une valve de diode à la base courte à la
place la distribution des porteurs supérieurs elle est
15) transitoire de la valve de diode : S'appliquant à une polarisation dirigée à une valve de diode au long drainage de base au commencement, on l'a qu'il charge est limité du courant et donc il est nécessaire une période Pò avant qui les cargaisons de valve de diode et est doivent I ses têtes VD . S'appliquant à l'heure une polarisation inverse que nous devons avoir que la valve de diode ne mène pas si non un petit courant des porteurs de minorité, mais celui ne se produit pas immédiatement dans combien coûte nécessaire un Pò de temps avant qu'il vient des charges de riassorbita dans la région presque neutre, parce que le velocizzare cette fois peut ou être réduit le courant continu ou pour réduire la période de la vie de l'insertion de porteurs de minorité des centres de la recombinaison en or.
16) les capacités se sont associées à une valve de diode : Une capacités C sont jeu inhérent aux charges stockées dans la région de l'épuisement et une capacités relativesC d aux charges stockées dans la région presque-neutre, accroissent l'esponenzialmente avec la tension directe appliquée tandis que Cj assume la valeur prédominante dans le cas de la polarisation inverse. |